欧州、ASMLの利益を守るため米国のチップ戦争戦術に異議を唱える
半導体の覇権をめぐる地政学的な争いが激化する中、欧州の指導者たちは米国の強硬な立法措置を阻止しようと動き出している。オランダ当局者は、米国の新たな貿易制限が、欧州にとって最も重要な技術的礎石を意図せずして壊滅させる可能性があるとして警鐘を鳴らしている。
MATCH法とオランダ産業への脅威
オランダのショエルド・ショエルズマ通商相は先日ワシントンを訪問し、ハワード・ルトニック商務長官や連邦議会議員と会談して、MATCH法に正式に反対を表明した。この法案は、中国のチップメーカーによるより広範な西側機器へのアクセスを禁止することで、既存の半導体封鎖を拡大することを目指している。この法案は米国にとっての国家安全保障措置として位置づけられているが、欧州の当局者は、これがオランダの経済的利益、特にASMLの事業の安定性に対して存亡の危機をもたらすと主張している。
ASML：グローバルなAIハードウェアの要
この立法上の綱引きにおける争点は、オランダに拠点を置く企業であり、欧州で最も価値のある企業であるASMLに集中している。ASMLは、現代の人工知能を支える最先端チップの製造に不可欠な、高度な露光装置（リソグラフィ装置）において世界的な独占状態にある。
現在、中国はASMLのビジネスにおいて大きな割合を占めており、同社の純システム売上高の19%を占めている。米国はすでにASMLの最も先進的な極端紫外線（EUV）装置に対する禁止措置を成功させているが、MATCH法はさらなる締め付けを図っている。同法は、これらの規制を深紫外線（DUV）液浸露光装置にまで拡大することを提案している。これはEUVの1世代前の技術ではあるが、大量の半導体生産には依然として不可欠な技術である。
DUV技術への規制強化
DUV技術への拡大提案は、半導体貿易戦争における重大な転換を意味している。ASMLのクリストフ・フーケCEOによれば、現在中国が購入を許可されている装置は旧世代のDUV装置であり、その中には10年以上前に初めて出荷されたものもある。これらの旧式装置を規制対象として再分類することで、MATCH法は実質的にASMLの重要な収益源を断ち切り、中位層の半導体製造におけるグローバルなサプライチェーンを混乱させることになる。
4月に提出されたこの法案は、下院または上院での本会議での採決にはまだ至っていない。アナリストは、MATCH法が勢いを得るためには、より大きな立法パッケージの一部として組み込まれる必要があるだろうと示唆している。
なぜこれがAIの展望において重要なのか
ワシントンとハーグの間の緊張は、AIの主権に対する西側の取り組みにおける溝が深まっていることを浮き彫りにしている。米国が中国の技術進歩の封じ込めに優先順位を置く一方で、欧州は世界経済を牽引する専門的な製造エコシステムの保護に焦点を当てている。もしMATCH法が現在の形式で可決されれば、家電製品からAIアクセラレータに至るまで、あらゆるものを構築するために必要なツールが政治的な陣営によって厳格に区分けされる「二分された技術世界」を招き、世界のハードウェア・イノベーションのペースを鈍化させる可能性がある。
主なポイント
- 立法上の対立: 米国主導のMATCH法は、半導体の輸出禁止措置を旧世代のDUV液浸露光装置にまで拡大することを目指しており、オランダはこの動きに強く反対している。
- ASMLのリスク: 高度な露光装置の世界唯一のプロバイダーとして、ASMLは重大な収益リスクに直面している。現在、中国は同社の純システム売上高の19%を占めている。
- 地政学的な分断: この紛争は、米国の国家安全保障目標と、欧州のハイテク製造リーダーの経済的利益との間の根本的な緊張を浮き彫りにしている。