米国、ASMLの極めて重要なEUV露光装置が中国にあると主張
中国における極端紫外線（EUV）露光装置の存在の可能性を巡り、米国政府とオランダの半導体大手ASMLとの間で、重大な対立が激化している。米国当局は輸出管理の重大な違反があったと主張しているが、ASMLは、そのような先端技術が中国に渡ったことは一度もないと主張している。
疑惑：グローバルな輸出管理の違反
米国商務長官のハワード・ラトニック氏は、EUVシステムが中国へ不正に出荷された可能性について、ASMLの経営陣に対し深刻な懸念を表明したと報じられている。これらの装置は、次世代AIチップに必要な最も高度な半導体パターンを形成できる、地球上で唯一のツールである。
ブルームバーグの報道によると、政権高官らは、ASMLがEUV関連のコンポーネントや輸送機器を中国に送った証拠を保持していると主張している。しかし、商務省はこれまでのところ、この証拠を公表することも、ASML自身に開示することも拒否している。もしこれが事実であると証明されれば、北京が高度な軍事および産業用AIアプリケーションに必要なハードウェアを入手することを防ぐために設計された輸出管理体制における、大規模な失敗を意味することになる。
ASMLの弁明：内部ファイアウォールと商業的論理
ASMLはこれらの主張を猛烈に否定しており、中国にEUV装置は存在しないと述べている。クリストフ・フーケCEOは、機密性の高いEUV関連の文書やトレーニングにアクセスできる従業員と、中国に駐在する従業員を分離する内部的な「ファイアウォール」を含む、厳格な保護策を講じていることを強調した。
フーケ氏の弁明は、「技術的な複雑さ」と「商業的な存続」という2つの柱に基づいている。第一に、EUV技術は、数十年にわたる専門知識とEUV光を生成する特定の能力がなければ、リバースエンジニアリングすることは不可能であると彼は主張している。第二に、たった一度の不正な販売のために、ASMLがグローバルな輸出ライセンス、そして約7,000億ドルの時価総額を危険にさらすことは、商業的に不合理であると示唆している。ASMLは、2026年の売上高の20%を占めると予想される旧世代の深紫外線（DUV）装置を中国に販売しているが、同社はこれらをEUV禁止措置を回避するための抜け穴ではなく、管理された市場を維持するための手段と見なしている。
AI軍拡競争への広範な影響
ワシントンとASMLの間の緊張は、単一の企業の問題にとどまりません。それは、AI時代の基盤となる独占権をめぐる問題なのです。ASMLは、TSMCがNvidiaやApple向けのチップを製造するために使用する装置の唯一のサプライヤーです。ASMLのサプライチェーンへの混乱や、地政学的緊張への対応能力の低下は、世界のテクノロジースタック全体に波及する可能性があります。
さらに、この監視は、米国政府が代替技術に投資している時期に行われています。商務省は、次世代光源技術を開発するスタートアップであるxLightに対し、最大1億5,000万ドルを割り当てました。xLightはASMLの潜在的なパートナーとしての地位を確立しようとしていますが、この動きは、リソグラフィの勢力図を多様化し、単一の欧州の独占企業への依存を減らそうとする米国の関心を浮き彫りにしています。
主なポイント
- 対立: 米国は、重要なEUVリソグラフィ・コンポーネントが輸出禁止措置を回避して中国に渡っていると主張していますが、ASMLは厳格な内部ファイアウォールによってそのようなアクセスは防止されていると主張しています。
- 戦略的重要性: ASMLはEUV装置を完全に独占しており、世界のAIハードウェア・サプライチェーンにおいて、Nvidia以外のプレイヤーの中で最も重要な存在となっています。
- 経済的リスク: 違反が確認された場合、連邦議会でさらに厳格な超党派の立法につながる可能性があり、より古いDUV装置の中国への出荷までもが禁止される恐れがあります。