USA twierdzą, że krytyczne narzędzia litograficzne EUV firmy ASML znajdują się w Chinach

Między rządem USA a holenderskim gigantem półprzewodnikowym ASML narasta napięty konflikt dotyczący potencjalnej obecności maszyn litograficznych Extreme Ultraviolet (EUV) w Chinach. Podczas gdy urzędnicy USA twierdzą, że doszło do poważnego naruszenia kontroli eksportu, ASML utrzymuje, że żadna tak zaawansowana technologia nigdy nie trafiła na chińską ziemię.

Zarzut: Naruszenie globalnych kontroli eksportu

Sekretarz handlu USA, Howard Lutnick, miał wyrazić poważne obawy wobec dyrekcji ASML w związku z możliwą nieautoryzowaną wysyłką systemów EUV do Chin. Maszyny te są jedynymi narzędziami na Ziemi zdolnymi do nanoszenia najbardziej zaawansowanych wzorów półprzewodnikowych, niezbędnych do produkcji chipów AI nowej generacji.

Według doniesień Bloomberga, wysokiej rangi urzędnicy administracji twierdzą, że posiadają dowody na to, iż ASML wysłało do Chin komponenty związane z EUV oraz sprzęt transportowy. Departament Handlu odmówił jednak dotychczas upublicznienia tych dowodów lub przekazania ich samej firmie ASML. Jeśli te twierdzenia okażą się prawdziwe, oznaczałoby to ogromną porażkę systemu kontroli eksportu, zaprojektowanego w celu uniemożliwienia Pekinowi dostępu do sprzętu niezbędnego do zaawansowanych zastosowań AI w wojskowości i przemyśle.

Obrona ASML: Wewnętrzne zapory i logika biznesowa

ASML stanowczo zaprzeczyła tym oskarżeniom, stwierdzając, że w Chinach nie znajduje się żadna maszyna EUV. Dyrektor generalny Christophe Fouquet podkreślił, że firma stosuje rygorystyczne środki bezpieczeństwa, w tym wewnętrzną „zaporę” (firewall), która oddziela pracowników mających dostęp do wrażliwej dokumentacji i szkoleń dotyczących EUV od osób stacjonujących w Chinach.

Obrona Fouqueta opiera się na dwóch filarach: złożoności technicznej i przetrwaniu komercyjnym. Po pierwsze, argumentuje on, że inżynieria wsteczna technologii EUV jest niemożliwa bez dziesięcioleci specjalistycznej wiedzy oraz specyficznej zdolności do generowania światła EUV. Po drugie, sugeruje, że z punktu widzenia biznesowego byłoby nieracjonalne, aby ASML ryzykowało swoje globalne licencje eksportowe – oraz kapitalizację rynkową wynoszącą około 700 miliardów dolarów – dla jednej nielegalnej sprzedaży. Choć ASML sprzedaje do Chin narzędzia starszej generacji typu Deep Ultraviolet (DUV), które mają stanowić 20% jej przychodów w 2026 roku, firma postrzega to jako sposób na utrzymanie kontrolowanego rynku, a nie jako lukę pozwalającą na obejście zakazu dotyczącego EUV.

Szerszy wpływ na wyścig zbrojeń w dziedzinie AI

Napięcie między Waszyngtonem a ASML to nie tylko kwestia jednej firmy; chodzi o fundamentalny monopol ery AI. ASML jest jedynym dostawcą maszyn używanych przez TSMC do produkcji chipów dla Nvidii i Apple. Każde zakłócenie w łańcuchu dostaw ASML lub jej zdolności do radzenia sobie z napięciami geopolitycznymi może odbić się echem w całym globalnym stosie technologicznym.

Co więcej, kontrola ta odbywa się w czasie, gdy rząd USA inwestuje w technologie alternatywne. Departament Handlu przeznaczył do 150 milionów dolarów na xLight, startup rozwijający technologię źródeł światła nowej generacji. Choć xLight pozycjonuje się jako potencjalny partner dla ASML, ruch ten podkreśla zainteresowanie USA dywersyfikacją krajobrazu litograficznego i zmniejszeniem zależności od pojedynczego europejskiego monopolu.

Kluczowe wnioski

• Konflikt: USA twierdzą, że krytyczne komponenty litografii EUV ominęły zakazy eksportu, aby trafić do Chin, podczas gdy ASML utrzymuje, że rygorystyczne wewnętrzne zabezpieczenia uniemożliwiają taki dostęp.
• Znaczenie strategiczne: ASML posiada całkowity monopol na maszyny EUV, co czyni ją najważniejszym graczem spoza Nvidii w globalnym łańcuchu dostaw sprzętu AI.
• Ryzyka ekonomiczne: Potwierdzone naruszenie może doprowadzić do jeszcze surowszych, dwupartyjnych regulacji w Kongresie, co potencjalnie mogłoby objąć zakazem nawet wysyłkę starszych urządzeń DUV do Chin.